イオンエッチング機器

1。機器の説明：・機器の紹介：エッチングチャンバーを通るプロセスガス分子を発現させ、血漿を生成するためにイオン化します。プラズマ内の活性グループのいくつかは、エッチングされた材料の表面と化学的に反応します。エクスプレス薄膜エッチング機器...

Plasma Etching Thin Film装置は、薄膜コーティングの精密ストリッピング用に設計された最先端のソリューションであり、表面修飾と残留除去の並外れた性能を提供します。反応性イオンエッチング（RIE）技術を活用するこの機器は、化学反応と物理的イオン爆撃を組み合わせて、均一で制御されたフィルム除去を実現します。

ドライエッチング機器は、多様な産業全体で精密材料処理のための高性能ソリューションです。高度な反応性イオンエッチング（RIE）テクノロジーを利用して、この機器は液体化学物質のない非接触、残留物のないエッチングを実現し、ミクロンレベルの精度と環境コンプライアンスを必要とするアプリケーションに最適です。

プラズマ洗浄機は、材料表面から有機汚染物質、酸化物、および顕微鏡残基を除去するための多用途の溶液です。低温プラズマ技術を活用することにより、敏感な基質への熱損傷を避けながら、表面エネルギーと接着を大幅に促進します。