物理蒸着 (PVD) 薄膜装置

物理蒸着 (PVD) 薄膜装置

詳細
Anhui Chunyuan Coating Technology Co., Ltd. は、高度な物理蒸着 (PVD) 薄膜装置の研究開発を専門とし、産業用途に高性能のコーティング ソリューションを提供しています。-このシステムは、マグネトロン スパッタリング、アーク蒸着、イオン プレーティングなどの最先端技術を統合しており、アップグレードされた電磁フィルタリング システムを備えているため、ナノからマイクロスケールの合金、金属窒化物、および複合膜を優れた密着性、均一性、密度で制御可能に堆積できます。-
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薄膜装置
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技術的なパラメーター

Anhui Chunyuan Coating Technology Co., Ltd. は、高度な物理蒸着 (PVD) 薄膜装置の研究開発を専門とし、産業用途に高性能のコーティング ソリューションを提供しています。-このシステムは、マグネトロン スパッタリング、アーク蒸着、イオン プレーティングなどの最先端技術を統合しており、アップグレードされた電磁フィルタリング システムを備えているため、ナノからマイクロスケールの合金、金属窒化物、および複合膜を優れた密着性、均一性、密度で制御可能に堆積できます。-

 

中核となる技術的ブレークスルーには、電磁フィルタリング システムと電磁スキャン システムが含まれます。プラズマ強化反応性蒸着技術と組み合わせたものです。これにより、中性粒子、大粒子イオン クラスタ、その他の不純物をフィルタリングして除去することができ、プラズマ ビームの純度が大幅に向上し、緻密で均一なナノ フィルムが作成され、フィルム層がより硬くなり、耐摩耗性と耐食性が向上します。{0}{1}}

 

この装置はモジュール式真空チャンバー設計を採用しており、マルチ アーク ターゲットの組み合わせと高密度プラズマ源 (HDP) を備えており、最大蒸着速度は毎分 5 ミクロンで、基板温度は 200 度以下に制御できます。-

 

さらに、Chunyuanが独自に開発したハイブリッドPVDモードと反応性ガスイオン化促進システムも採用しているため、従来の装置と比較して、コーティング硬度がHV3500に増加し、欠陥密度が60%減少します。このシステムは、AlCrN、TiSiCN、ZrO₂-Al₂O₃ ナノ-複合材料などの 40 種類以上のコーティング材料をサポートしており、最高硬度は 45GPa に達し、耐熱性は 800 度を超えています。インダストリー 4.0 インターフェースを備えており、AI 駆動の成膜モデルを通じてリモート パラメータの最適化を実現できます。{10}

 

この装置は現在、精密部品、マイクロエレクトロニクス、自動車部品、家庭用電化製品、装飾塗装分野で広く使用されています。コアコンポーネントの現地化率は 85% に達し、エネルギー消費量は EU の同様の製品より 30% 低く、中国のハイエンド塗装装置分野で大きな進歩を遂げています。-

 

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