カソードアーク薄膜装置

カソードアーク薄膜装置

詳細
局所的な低電圧、高電流の電気アークを利用して、固体陰極ターゲットを蒸発させて完全にイオン化したプラズマを生成する物理蒸着 (PVD) システム。-高いイオン化率(40%-80%)により、高密度の原子-レベルの結合と高い圧縮応力が促進され、高速度鋼(HSS)、超硬切削工具、自動車部品、医療機器などに耐摩耗性および装飾コーティングを高速で堆積させることができます。--
カテゴリー
アーク蒸着薄膜装置
 
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説明
技術的なパラメーター

局所的な低電圧、高電流の電気アークを利用して、固体陰極ターゲットを蒸発させて完全にイオン化したプラズマを生成する物理蒸着 (PVD) システム。-高いイオン化率(40%-80%)により、高密度の原子-レベルの結合と高い圧縮応力が促進され、高速度鋼(HSS)、超硬切削工具、自動車部品、医療機器などに耐摩耗性および装飾コーティングを高速で堆積させることができます。--

 

技術仕様

 

パラメータ

仕様範囲・詳細

チャンバーの寸法

カスタマイズされた内容積(Φ 800 × 1000 mm ~ Φ 1500 × 1600 mm、SUS304/SUS316L 二重壁-水冷-)

到達圧力

5.0 × 10-4 Pa 以下 (ターボ分子およびルーツ/ロータリー補助ポンプ構成)

使用圧力

0.1Pa~2.0Pa(Ar、N₂、C₂H₂、O₂)

カソードアーク源

独立した磁気ステアリングを備えた 4 ~ 12 個の分散型円形/長方形フィルターまたは標準ソース

基板バイアス

パルス DC バイアス (0 ~ -1000 V 調整可能、10 ~ 100 kHz)

暖房システム

輻射石英ヒーター;最高ベーキング温度 500 度 (均一性 ±5 度)

制御アーキテクチャ

シーメンス PLC + 産業用 PC (IPC);自動レシピ実行と手動ハードウェアオーバーライド

電源供給

3 相、380V/480V、50Hz/60Hz (地域の規格に従って構成)

 

主な特長


高いイオン化効率:プラズマイオン化率は 40%-80% に達し、フィルムと基板の優れた密着性を保証します。-


モジュラーカソード:ターゲット アセンブリを素早く変更できるため、メンテナンスのダウンタイムが最小限に抑えられます。-平面および回転可能な円筒形のカソードと互換性があります。


閉ループガス制御:-MKS マスフロー コントローラーは、化合物膜 (TiAlN、TiCN) の反応性ガス分圧を正確に維持します。


多軸遊星回転:カスタマイズされた回転および公転ドライブにより、複雑な 3D 形状全体での厚さの均一性 (±5%) が保証されます。


デュアルモード動作:多層アーキテクチャ向けの DC アーク蒸着とパルス バイアス スパッタリングの統合をサポートします。-

 

真空システム構成


荒引きポンプ:ルーツポンプとロータリーベーンポンプの組み合わせにより、大気から 10 Pa まで急速にポンプダウンできます。{0}


高真空ポンプ:磁気浮上式ターボ分子ポンプ (1600 ~ 3200 L/s) により、炭化水素フリーのベース圧力を確保します。{2}


バルブとゲージ:ピラニと冷陰極イオン化を備えた空気圧式高真空ゲート バルブがオイルの逆流を防止します。{0}


[Webプロデューサー向けビジュアルガイド]:ターボ分子ポンプと空気圧ゲート バルブの位置を強調した、真空配管レイアウトの概略写真または明確な写真を挿入します。

 

蒸着材料と基板の適合性


標準カソードターゲット (純度99.95%以上)
遷移金属:
Ti、Cr、Zr、Al、TiAl (原子比 50/50、33/67)、CrAl、W、Nb、Si。


合金と化合物:グラファイト(DLC中間層用)、ステンレス鋼。


基材の適合性と前処理-
材料:
WC-Co 切削工具、ホブカッター、ブローチ、スタンピングダイス、射出成形金型、チタン合金 (グレード 5)、ステンレス鋼。


前治療:-蒸着前のチャンバー内の超音波溶剤脱脂とその場イオン衝撃洗浄 (Ar⁺ プラズマ エッチング)。-

 

アプリケーション


切断および成形ツール:TiN、TiAlN、および AlCrN コーティングは、表面硬度を 3000 ~ 3500 HV に高め、熱によるクレーターと摩耗を抑制します。


自動車部品:-ピストン リング、燃料噴射ピン、ギア部品の摩擦低減コーティング。


医療用インプラント:整形外科用関節置換術および外科用ネジの生体適合性 TiN および ZrN 硬質コーティング。


装飾金具:反応性ガス調整によるカラースペクトルの生成 (ゴールドブラス、ローズゴールド、ガンメタルブラック、チタングレー)。

 

カスタマイズオプション


チャンバーの形状:垂直積み(ピット{0}}または床置き-)または水平前入れ-構成。


ソース構成:フィルター付きカソーディック アーク (FAC) 磁気ダクト ソースにより、光学または精密エレクトロニクス用のマクロ粒子を除去します。


オートメーション:ロボットローディングアーム、AGVドッキング統合、MESデータロギングプロトコル。

 

品質管理と工場テスト


漏れの検出:すべてのチャンバーおよび溶接継ぎ目に対するヘリウム質量分析計によるテスト (1 × 10⁻⁹ Pa・m³/s 以下)。


電気的安全性:高電圧絶縁抵抗、接地導通、PLC インターロック機能の検証。-


試運転 (FAT):72- 時間の連続乾燥-テストに加え、カロテスト (厚さ) とスクラッチ テスター (密着性) によって評価された標準コーティング堆積テスト。


ドキュメントパッケージ:電気回路図、P&ID 図、PLC ソース コード、材料証明書、および FAT レポート。

 

設置と技術サポート


サイトの準備:詳細なレイアウト図面、冷却水の寸法、および配電仕様は出荷の 4 週間前に提供されます。


試運転:-上級プロセス エンジニアによる現場での機械組み立て、真空校正、レシピの引き継ぎ。


トレーニング:-ハードウェアのメンテナンス、掃除機のトラブルシューティング、安全プロトコルを網羅した実践的な説明。


サポート:地域のスペアパーツ在庫に裏付けられた、リアルタイムの PLC トラブルシューティングのためのリモート診断ソフトウェアの統合。{0}

 

よくある質問

 

Q: システムはマクロ粒子 (液滴) をどのように制御しますか?

A: 標準システムでは、最適化された磁場閉じ込めを使用して、アーク スポットを迅速に制御します。光学的または超滑らかなアプリケーションの場合、当社はフィルタド カソーディック アーク (FAC) 磁気ダクトを統合して、液滴を完全に除去します。-

Q:使用率と交換時期の目安はどのくらいですか?

A: 平面および円形のターゲットは 45%-60% の使用率を達成します。ターゲットは水冷され、クイック クランプ シールで取り付けられるため、45 分以内にターゲットを交換できます。-

Q: 施設のユーティリティ要件は何ですか?

A: 冷水供給 (8 ~ 15 m3/h、18 ~ 22 度、0.2 ~ 0.3 MPa)、圧縮空気 (0.6 MPa)、および安定した三相工業用電力。

Q: 既存のプロセスレシピを転送できますか?

A: はい。 Siemens IPC プラットフォームでは、アーク電流、バイアス電圧、ガス流量、継続時間などのパラメーターを直接入力して、既存の産業用レシピに適合させることができます。

 

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