中国マルチ-アークイオン薄膜装置メーカーサプライヤー工場- 春源コーティング

製品概要

精密部品にハードコーティング、機能性フィルム、装飾的な PVD 仕上げを施すために設計された工業用マルチアークイオンプレーティング装置。{0}このシステムは、高電流、低電圧の真空アーク放電を利用して、固体ターゲット材料 (Ti、Cr、Al、Zr) を直接蒸発させます。-反応性ガス (N2、O2、C2H2) と組み合わせると、高密度の遷移金属の窒化物、炭化物、酸化物を金属基板上に直接合成します。

モジュール式真空チャンバーアーキテクチャに基づいて構築されたこのターンキー PVD ソリューションは、研究開発のバッチ処理から自動化された高スループットのインライン製造まで、さまざまな生産規模に対応します。{0}{1}{1}このシステムは、24 時間 365 日継続的な産業環境において、高い目標利用率と低い総所有コスト (TCO) を実現するように最適化されています。

マルチアーク真空蒸着装置-
このマルチアーク真空蒸着システムは、陰極アークイオンプレーティング技術を利用して、金属および非金属基板上に緻密で密着性の高い硬質コーティングを{{1}蒸着します。-低電圧、高電流のアークを固体陰極ターゲットに照射すると、真空環境で材料が瞬時に蒸発し、イオン化されます。-負のバイアス電圧によって加速されると、金属イオンが反応性ガス (N2、C2H2、O2)...
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マルチアークイオンデポジションシステム-
The Multi-Arc Ion Deposition System performs industrial-scale cathodic arc evaporation for hard, wear-resistant, and low-friction thin films. The process achieves >固体カソード材料の 80%...
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マルチアーク PVD 薄膜装置-
産業用マルチ-アーク PVD システムは、高イオン化カソードアーク物理蒸着を利用して、高密度で化学量論的な硬質コーティング (TiN、TiAlN、CrN、DLC など) を金属基板上に堆積します。-このシステムは、大量の契約コーティングセンターや専用製造ライン向けに設計されており、精密部品の耐摩耗性、摩擦低減、熱安定性を最適化します。
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マルチアークイオン蒸着装置-
産業用マルチアークイオン蒸着システムは、高電流、低電圧の陰極アーク蒸着により、高密度で密着性の高い薄膜を生成します。-固体ターゲット材料 (カソード) は、反応性ガス雰囲気 (N2、O2、または C2H2 など) 中で蒸発させて、化学量論的化合物コーティングを合成します。この装置は 80%...
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マルチ-アークイオン薄膜システム
産業用マルチアークイオン薄膜システムは、陰極アーク蒸着を利用して、金属および合金の基材上に緻密で密着性の高いセラミックおよび金属コーティングを堆積します。-このシステムは、高電流、低電圧の電気アークによって真空環境で固体の陰極材料を気化させることにより、反応性ガス（窒素、アセチレン、酸素など）と相互作用する金属蒸気をイオン化し、化学量論的化合物の膜を形成します。
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マルチ-アークイオン薄膜装置
このマルチアークイオンプレーティングシステムは、陰極アーク蒸着を利用して、緻密で密着性の高いハードコーティングと機能性薄膜を堆積します。-固体陰極ターゲットに高電流、低電圧のアークを照射すると、材料は高真空環境で瞬時に蒸発およびイオン化されます。-このシステムは、反応性ガス (N2、O2、または C2H2)...
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技術仕様

パラメータ	仕様範囲	単位・メモ
チャンバーの寸法	Ф600×600～Ф1500×1800	mm (カスタムの垂直または水平構成)
到達真空圧	<= 5.0 x 10^-4	Pa (ドライポンプ + ターボ-分子 / 油拡散セット)
カソードアーク源	4～16台	電磁ステアリングまたはフィルター付きアーク源 (FCA)
基板バイアス電力	0～-1000	V (高度なパルス DC / MF バイアス機能)
加熱温度	室温～600℃	C（PID制御ラジエントヒーター）
蒸着の均一性	<= +/- 5%	有効作業ゾーン全体で XRF を介して測定
制御システム	PLC + 産業用 PC	自動レシピ実行、SCADAデータロギング
安全性とコンプライアンス	CE、ISO 9001	ご要望に応じて、UL-準拠の電気エンクロージャをご利用いただけます

マルチアークイオンデポジションプロセス-

物理蒸着シーケンスは厳密な閉ループ自動ワークフローに基づいて動作し、バッチ間の再現性を確保します。{0}{1}{2}:

排気とガス抜き:

真空チャンバーは、ベースライン圧力までポンプダウンされます。<= 5.0 x 10^-3 Pa, while substrate temperatures are ramped to eliminate surface volatiles.

プラズマエッチング (ボンバードメント):

アルゴンガスを導入します。高い負のバイアスが基板ホルダーに印加され、Ar イオンが生成され、表面に衝突して自然酸化物や微小汚染物質がスパッタリングされます。-。

アーク蒸発とイオン化:

DC アーク電流が固体金属陰極に流れます。局所的な陰極スポットは極度のエネルギー密度に達し、ターゲット物質を瞬時に蒸発させて高密度のプラズマ流（イオン化率 > 80%）を生成します。-

反応性堆積:

反応性ガスは、マスフローコントローラー (MFC) を介して正確に制御された分圧でプラズマフラックスに注入され、回転する基板上に化学量論的化合物の膜を形成します。

冷却と通気:

チャンバーの排気前に不活性ガス保護下で制御された冷却が行われ、新しくコーティングされた部品の酸化を防ぎます。

フィルム材質とコーティング特性

このシステムは、マルチ-金属陰極の配置をサポートしており、単層、多層、ナノ-複合膜、および勾配膜アーキテクチャを可能にします。

TiN（窒化チタン）：

標準の金色のコーティング。硬度 2200 ～ 2400 HV。摩擦係数0.4。主な用途：一般切削工具および機械摩耗部品。

TiAlN（窒化チタンアルミニウム）：

-850℃までの高温酸化耐性。硬度 3000 ～ 3300 HV。主な用途: 高速乾式加工インサートおよびエンジンバルブ。-

CrN / CrAlN (窒化クロム):

優れた耐食性と低い内部応力。非鉄金属に対する抗-特性。-主な用途：成形金型、ピストンリング、繊維機械部品。

ZrN / TiCN:

低い表面粗さ（Ra）<= 0.05 um); decorative stability and biocompatibility. Primary use: medical surgical instruments and premium sanitary hardware.

アプリケーション

精密切削工具:

高い熱負荷下で工具寿命の延長が必要なエンドミル、ドリル、ホブ、刃先交換式インサート。

自動車のパワートレイン:

ピストンピン、タペット、燃料噴射部品、および境界摩擦と耐スカッフィング性の低減が必要なギア表面。

金型と金型:

接着摩耗や熱疲労に対する耐性が必要なプラスチック射出成形金型、スタンピング金型、ダイカストインサート。-

航空宇宙部品:

タービンブレードとチタン製ファスナーは、激しい腐食性と高応力の環境下で動作します。-

カスタマイズとシステム構成

標準的なカタログ項目が専用の工場レイアウトに完全に適合することはほとんどありません。機器構成は、特定のコンポーネントの形状、サイクル時間の目標、および施設の制約に基づいて調整されます。

チャンバーの形状:

八角形または円筒形のステンレス鋼製チャンバー (SUS304/SUS316L) は二重壁-水冷-ジャケットを備えています。

ソースレイアウト:

Side-mounted or bottom-driven arc sources with magnetic steering coils to minimize macroparticle generation and ensure high cathode utilization (>60%).

基板固定具:

磁性流体フィードスルーによって駆動される遊星回転 (3- 軸) または単一回転機構により、複雑な 3D 形状上で均一なコーティング範囲を保証します。

ポンプスタックのオプション:

厳格なポンプダウンサイクルタイムを満たすように構成されたルーツブロワー、ロータリーベーンポンプ、極低温ポンプ、ターボ分子ポンプ。{0}}