製品概要
IAE-シリーズ イオン-補助蒸発薄膜装置は、物理蒸着 (PVD) とリアルタイムのイオン ビーム照射を統合しています。-熱蒸着または電子ビーム蒸着中に高エネルギーのイオンを基板に向けることにより、システムは凝縮する吸着原子に運動量を伝達し、成長する膜の微細構造を再構築します。
この運動エネルギーの移動により、柱状の空隙が排除され、吸湿が抑制され、周囲の湿度の変化に対して屈折率が固定されます。このプラットフォームは、光学および半導体の生産ラインでの連続的な多シフト操作向けに構築されており、高精度のレーザー光学素子からシリコン ウェーハに至るまでの基板を処理します。-
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![イオン-補助真空蒸着装置]()
イオン-補助真空蒸着装置イオン-支援真空蒸発システムは、高真空熱または電子ビーム蒸発源-とカウフマン-型またはエンドホール イオン源-を統合します。物理蒸着 (PVD) 中に成長中の膜にイオン化ガス (Ar または O2) を衝突させることにより、このシステムは運動エネルギーを吸着原子に伝達し、柱状微細構造を抑制し、光学薄膜および誘電薄膜の吸湿を防ぎます。もっと見る -
![イオン-アシスト薄膜蒸着システム]()
イオン-アシスト薄膜蒸着システムイオン-支援薄膜堆積システムは、マルチ-ポケット電子-ビーム/熱蒸着と高性能-エンドホール-またはカウフマン-タイプのイオン源を統合しています。物理蒸着 (PVD) 中に、高エネルギーのイオン衝撃により基板表面の吸着原子に運動量が直接伝達され、柱状微細構造のボイドが排除され、高密度で環境的に安定した薄膜が生成されます。-もっと見る -
![イオンビーム支援蒸着装置]()
イオンビーム支援蒸着装置IBAE システムは、電子ビームまたは熱蒸着と統合されたブロード ビーム イオン源を組み合わせたものです。{{1}膜成長中の同時のイオン衝突により、運動エネルギーが凝縮した吸着原子に伝達され、柱状微細構造が除去され、水分によるスペクトルシフトが最小限に抑えられたほぼ嵩密度の薄膜が生成されます。--もっと見る -
![イオン-アシスト薄膜蒸着装置]()
イオン-アシスト薄膜蒸着装置IA-シリーズ イオン-支援薄膜蒸着装置は、電子-ビーム熱蒸着とカウフマン イオン源またはエンドホール イオン源-を統合しています。堆積中の高エネルギーイオン衝撃 (アルゴン/酸素混合) により、吸着原子に運動量が伝達され、柱状空隙が除去され、吸湿が抑制され、屈折率が安定します。高精度の研究開発と連続生産向けに設計されたステンレス-鋼チャンバーは、基本圧力を 5 x 10^-6 Pa...もっと見る -
![イオン-蒸発補助薄膜システム]()
イオン-蒸発補助薄膜システムイオン-支援蒸発 (IAE) 薄膜システムは、物理蒸着 (PVD) と高エネルギーのイオン ビーム照射を統合しています。熱または電子ビーム蒸着中、補助カウフマンまたはエンドホール イオン源がアルゴンまたは反応性ガス...もっと見る -
![イオン-蒸発補助薄膜装置]()
イオン-蒸発補助薄膜装置マルチポケット電子ビーム蒸着と高エネルギーイオンビーム源 (エンドホールまたはカウフマン構成) を統合した工業用-グレードのイオン-支援蒸着 (IAE) システム。-{3}} -リアルタイムのイオン衝突により、運動量が凝縮した吸着原子に伝達され、柱状粒子の成長が抑制され、薄膜の充填密度がバルク材料の値に近づくように-なります。もっと見る
技術仕様
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パラメータ |
仕様 |
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究極の基本圧力 |
< 5.0 × 10⁻⁵ Pa (achieved within 45 mins via cryogenic/turbomolecular pumping) |
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蒸発源 |
マルチポケット E- ビームガン (4 × 15cc ～ 40cc) および抵抗熱源 |
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イオン源の種類 |
グリッドレスエンド-ホール/カウフマン-型イオン源（ビーム電圧: 50 – 1500 V、イオン電流: 0.1 – 3 A） |
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膜厚制御 |
水晶微量天秤 (QCM) + 光学モニタリングシステム (OMS)、精度 ± 0.1 nm |
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基板固定具 |
遊星回転治具、基板形状に合わせてカスタマイズされたドーム半径 |
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基板加熱 |
放射ヒーター アレイ、最大 350 度、± 2 度の PID 均一性 |
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制御アーキテクチャ |
PLC + 産業用 PC、自動レシピ実行、SECS/GEM 準拠のデータロギング |
イオン-支援蒸着プロセス
蒸気の発生:
材料は、制御された蒸着速度（0.1～2.0 nm/s）で電子ビームるつぼまたはサーマルボートから蒸発します。{0}
01
勢いの伝達:
高エネルギーイオン (Ar⁺、O⁺) は、E- ビームまたは熱源からの蒸気束の到達と同時に基板表面に衝突します。
02
微細構造の変更:
イオン衝撃により吸着原子表面の移動度が高まり、柱状粒子の成長が防止され、ほぼ嵩密度（充填密度 > 99%）が達成されます。-
03
化学量論補正:
反応性イオン補助 (O₂) により、金属酸化膜の亜酸化物 (Ta₂O₅、Nb₂O₅、SiO₂ など) を確実に完全に酸化し、UV- スペクトルの吸収帯を除去します。
04
フィルム素材
酸化物:
SiO₂、Ta₂O₅、TiO₂、Nb₂O₅、HfO₂ (光学フィルター用の高い屈折率安定性)。
フッ化物:
MgF₂、LaF₃ (広帯域 AR コーティング用の低屈折率層)。
金属:
Al、Ag、Au、Ti（接着層および金属反射板）。
アプリケーション
レーザーと精密光学:
バンドパス フィルター、ダイクロイック ミラー、レーザー保護コーティングには、高いレーザー誘起損傷しきい値 (LIDT) と熱応力下でのゼロ スペクトル シフトが必要です。{0}
LiDAR カバー ガラス:
耐久性のある反射防止（AR）および防汚の薄膜-で、過酷な屋外の風化に耐えます。-
半導体パッケージング:
湿気-バリアカプセル化層と金属接触パッドは低い基板温度で堆積されます。
生体医療センサー:
診断用マイクロ流体チップ用の生体適合性光学干渉コーティング。
カスタマイズ
チャンバーと内部レイアウトは、特定の製造フットプリントとプロセス要件に合わせて設計されています。
チャンバーの寸法:
R=600 mm の研究開発ユニットから R=1200 mm - の高容量生産システムまで拡張可能。
ポンピングパッケージ:
ガス負荷要件に基づいて、磁気浮上式ターボ分子ポンプ、クライオポンプ、およびルーツ ブロワー バッキング ラインを構成できます。
ソースの統合:
複雑な合金および多層勾配膜用のデュアル イオン ソース構成または共{{1}{2}セットアップ。-
自動化レベル:
自動クリーンルーム基板搬送システム (EFEM / 真空クラスター ツール) との統合。
品質管理
漏れの検出:
すべての真空チャンバーは、質量分析計を使用してヘリウム リーク テストされています（リーク レート < 1.0 × 10⁻¹⁰ Pa·m³/s）。{0}}
コンポーネントのトレーサビリティ:
真空バルブ、マスフローコントローラー (MFC)、および電源は認定 Tier-1 産業ブランド (MKS、Inficon、VAT) から供給されています。
工場受け入れテスト (FAT):
出荷前に、ベース圧力、ポンピング曲線、ソースの安定性、24 時間の連続空室耐久性を検証するテストを実行します。-
計測学の検証:
サンプルの実行は、分光光度計 (透過率/反射率) および原子間力顕微鏡 (表面粗さ Ra < 0.5 nm) によって検証されました。
設置と技術サポート
サイト準備ガイド:
納入前に提供される包括的なユーティリティ要件 (冷却水の流量/圧力、クリーンルームの圧縮空気、配電、排気口)。
ターンキー試運転:
フィールド サービス エンジニアは、機械の組み立て、真空ベークアウト、イオン ビームの校正、初期プロセス レシピの承認を現場で行います。--
オペレータートレーニング:
日常のメンテナンス、掃除機の安全性、ソフトウェアの操作、トラブルシューティングを網羅した体系的な実践トレーニング。-
ライフサイクルサポート:
ソフトウェアの迅速なトラブルシューティングのためのリモート診断インターフェイス。重要な摩耗品目 (フィラメント、るつぼ、シールド) の地域在庫を 48 時間以内に発送します。
よくある質問
当社は、中国の大手イオン蒸着薄膜装置メーカーおよびサプライヤーとしてよく知られています。{0}{1}{0}中国製のカスタマイズされたイオン-補助蒸発薄膜装置を購入する場合は、当社の工場から価格表を入手することを歓迎します。価格のご相談は、お問い合わせください。
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