薄膜装置

EBE- シリーズ高真空電子ビーム蒸着システムは、光学、半導体、冶金用途向けの高純度薄膜を堆積します。-このシステムは、真空チャンバー内の原料物質に磁気的に集束した電子ビームを照射することにより、局所的な加熱と急速な蒸発を実現します。この方法は、るつぼの汚染を防ぎ、高融点金属と高純度誘電体を効果的に処理します。-

電子ビーム薄膜蒸着システムは、高度な研究や工業生産向けに指向性のある高純度 PVD ​​処理を実現します。{0}このシステムは、水冷銅るつぼ内のソース材料に向けられた集束され磁気的に誘導された電子ビームを利用して、るつぼを汚染することなく高融点金属、酸化物、誘電体化合物の熱蒸着を実現します。{2}}

この電子ビーム真空蒸着システムは、高融点金属、酸化物、誘電体の物理蒸着 (PVD) を実行します。{0}{0}{1}集束電子ビームを水冷銅製ハースに向けることにより、このシステムはチャンバー壁を低温に保ちながら、局所的な温度を最大 3000 度まで高め、るつぼの相互作用を防ぎ、膜の純度を維持します。{3}

この工業用電子ビーム蒸着システムは、磁気集束電子銃 (3 kW ～ 15 kW) を利用して、高密度のエネルギー束を水冷銅炉床に誘導します。-このシステムは、高真空条件（最終ベース圧力 < 5 x 10^-6...

EBE- シリーズ電子ビーム蒸着システムは、高融点金属、誘電体、光学材料の物理蒸着 (PVD) -- 用に設計されています。磁気で偏向され、集束された電子ビームを水冷るつぼ内のソース材料に直接照射することにより、このシステムは汚染のない真空環境を維持しながら高い成膜速度を達成します。-

EBE-V600 シリーズは、光学部品、半導体デバイス、先端材料の精密な薄膜コーティング用に設計された産業規模の物理蒸着 (PVD) プラットフォームです。{{2}高エネルギーの磁気集束電子ビームを水冷るつぼ内の原料に照射することで、{6}システムはチャンバー壁からの熱負荷を隔離しながら急速な蒸発速度を実現します。

プラズマ強化薄膜装置は、純粋なイオン コーティング技術 (純粋なイオン ビーム)、高エネルギー イオン ビーム洗浄技術 (イオンビーム)、マグネトロン スパッタ技術 (スパッタ)、磁気閉じ込め蒸着 (磁気閉じ込め CVD) の 4 つの技術を 1 つにまとめたもので、PVD 技術と CVD 技術を完全に融合させたものです。-

光学薄膜装置は光学薄膜デバイスのコーティング用に特別に設計されており、低温トラップ補助真空を備え、優れた電子銃を備え、IAD高周波イオン支援蒸着を採用して膜を形成します。

マグネトロンスパッタリング薄膜装置は、当社の成熟したコア技術である高エネルギーイオンビーム洗浄+マグネトロンスパッタリング源（マグネトロンスパッタリング）を使用しており、装置は全自動制御、モジュール式統合最適化、装置の高出力、安定した性能、シンプルな操作と簡単なメンテナンスを採用しています。

Anhui Chunyuan Coating Technology Co., Ltd. は、高度な物理蒸着 (PVD) 薄膜装置の研究開発を専門とし、産業用途に高性能のコーティング ソリューションを提供しています。-このシステムは、マグネトロン スパッタリング、アーク蒸着、イオン プレーティングなどの最先端技術を統合しており、アップグレードされた電磁フィルタリング...